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Puntos pasados ​​por alto en el análisis de TOC Limpieza Validación Muestreo con hisopo

La validación de limpieza generalmente emplea dos métodos de muestreo: muestreo de enjuague y muestreo de limpieza.

El muestreo de enjuague se usa típicamente para recolectar muestras de grandes superficies como pisos o paredes. Se vierte una solución líquida sobre la superficie y luego se recolecta y mide los niveles de TOC para determinar la cantidad de materia orgánica en la superficie.

El muestreo por frotamiento se utiliza normalmente para recoger muestras de superficies más pequeñas, como equipos o herramientas. un especializado Hisopo de validación de limpieza TOC se usa para limpiar la superficie y luego se coloca en una botella de muestra de <10 ppb para pruebas posteriores.

Al realizar un muestreo con hisopo, hay dos pasos críticos que se deben considerar para optimizar el material de muestreo y los residuos, además del análisis en sí:

Paso 1: Use un hisopo de verificación de limpieza de TOC especializado para tomar una muestra de la superficie en contacto con el producto.

Paso 2: Transfiera los residuos del hisopo a la solución de extracción (generalmente agua con bajo TOC)

El material del hisopo de muestreo puede afectar la eficiencia del muestreo. Los hisopos de algodón convencionales utilizados en el pasado pueden liberar partículas o no liberar la muestra en la solución de extracción. Los hisopos de validación de limpieza de TOC especiales tienen buena resistencia a la abrasión y son compatibles con la mayoría de los disolventes, incluida la acetona. Tienen una excelente capacidad de absorción y bloqueo de solventes, y su eficiencia de muestreo es sobresaliente.

Para garantizar que el punto de muestreo represente el "peor de los casos" del equipo, use hisopos de validación de limpieza de TOC para repetir el proceso de muestreo dentro de un área rectangular específica. Después de limpiar, la solución de extracción del hisopo debe quedar lo menos posible en la superficie. Además, después del proceso de limpieza que involucra el secado a alta temperatura, la superficie del equipo debe enfriarse a temperatura ambiente antes del muestreo.

Después del muestreo, la tasa de recuperación del muestreo se puede mejorar optimizando el método de extracción, como el uso de una mesa vibratoria o un baño ultrasónico para mejorar la tasa de liberación de residuos/muestras en los hisopos de algodón de muestreo, que depende principalmente del tipo y condición del residuos

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